09月07日-09月11日，董建文教授赴深圳出席“2020 Optoelectronics Global Conference（OGC 2020）”会议，并做了题为“Silicon nitride metasurfaces and their visible applications”的邀请报告，介绍了氮化硅超表面的研究现状，同时从其可见光应用的角度，介绍了大口径高分辨成像、三维集成成像、超构显微物镜高分辨成像和多功能偏振复用等技术 。
随后，在09月11日-09月12日，董建文教授和范智斌（博士后）在东莞参加了“华为溪村成像光学工程高峰论坛”，并做了题为“氮化硅超构表面与可见光应用”的邀请报告，介绍了光学超表面的研究进展，包括超表面从单个到阵列再到系统层面的研究，并展示了氮化硅超表面在这期间的发展，此外还介绍了我们结合氮化硅超表面在大口径高分辨成像、消色差集成成像、超构显微物镜高分辨成像、多功能偏振复用等方面的工作。